Dotierung

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Eine Dotierung oder das Dotieren (v. lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachten Konzentrationen sind in der Regel sehr gering (Größenordnung ca. 10^–5). Die Fremdatome sind Störstellen im Halbleitermaterial und verändern gezielt die Eigenschaften des Ausgangsmaterials, meistens die Leitfähigkeit oder die Kristallstruktur. Es gibt verschiedene Dotierungverfahren, z. B. Diffusion, Sublimation aus der Gasphase oder Beschuss mittels hochenergetischen Teilchenkanonen unter Vakuum (Ionenimplantation).

Weblinks

• Dotierverfahren
• Grundlagen des Dotierens

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